什么是cmp拋光，超大規(guī)模集成電路硅襯底的拋光技術(shù)有什么用

來源：整理時(shí)間：2023-03-30 02:10:57 編輯：金融知識(shí) 手機(jī)版

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1，超大規(guī)模集成電路硅襯底的拋光技術(shù)有什么用
2，護(hù)膚三原則中的CMP指的是什么
3，解析一下CMP操作
4，拋光有幾種途徑
5，拋光都有哪些常見的方式方法

1，超大規(guī)模集成電路硅襯底的拋光技術(shù)有什么用

在半導(dǎo)體技術(shù)中大量使用CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）來進(jìn)行平坦化，譬如多層布線的臺(tái)階問題，介質(zhì)厚度不一會(huì)導(dǎo)致多層布線斷條，所以采用CMP來平整介質(zhì)層。

超大規(guī)模集成電路硅襯底的拋光技術(shù)有什么用

2，護(hù)膚三原則中的CMP指的是什么

cmp是compare的意思比較jne是jumpnotequal不相等就跳至就是說比較[e

雖然我很聰明，但這么說真的難到我了

護(hù)膚三原則中的CMP指的是什么

3，解析一下CMP操作

比較cx與00，02大小比較指令 CMP (compare)指令的匯編格式：CMP opr1,opr2指令的基本功能：(opr1)-(opr2),根據(jù)相減結(jié)果設(shè)置條件碼，但不回送結(jié)果。

就是比較兩個(gè)數(shù)。

解析一下CMP操作

4，拋光有幾種途徑

拋光粉化學(xué)機(jī)械拋光拋光粉拋光是為了使材料表面達(dá)到平整化的方式。傳統(tǒng)的材料平面化技術(shù)較多，如熱流法、回蝕法、旋轉(zhuǎn)式玻璃法、電子環(huán)繞共振法、低壓CVD、選擇淀積、淀積一腐蝕一淀積、等離子增強(qiáng)CVD等，這些技術(shù)材料平面化工藝發(fā)展中都曾被應(yīng)用，由于這些技術(shù)都屬于材料的局部平面化技術(shù)，為了能達(dá)到全局平面化，使用拋光粉做化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)逐步開始發(fā)展。在上世紀(jì)的60年代起，使用拋興粉化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)應(yīng)用于硅襯底片的平坦化，從80年代末期開始，CMP大規(guī)模用于集成電路的ULSI拋光，目前的CMP不僅能保證超高平坦化要求，還能減少表面去除量，現(xiàn)在CMP研究的熱門是關(guān)于超薄膜的去除和平坦化。從CMP設(shè)備的發(fā)展來看，最初的CMP機(jī)臺(tái)是單頭工作的，且效率較低、自動(dòng)化程度較差，目前的CMP臺(tái)己有多個(gè)機(jī)頭，可保證拋光的效率，近期日本的一些公司還研發(fā)了線性拋光機(jī)臺(tái)。使用拋光粉做化學(xué)機(jī)械拋光是一種兼顧化學(xué)拋光和機(jī)械拋光二者優(yōu)點(diǎn)的一種坦化工藝技術(shù)[m-19}CMP過程可簡(jiǎn)單歸結(jié)為:在拋光墊和拋光粉的作用下，首先由于拋光粉的化學(xué)作用使材料表面薄層部分被軟化，隨后在拋光粉、拋光墊的機(jī)械作用下將其去除，從而實(shí)現(xiàn)工件表面的高速平坦化。整個(gè)過程涉及拋光機(jī)臺(tái)和拋光消耗品，主要消耗品包括拋光粉和拋光墊，大約占據(jù)CMP總成本的60% o CMP機(jī)理與拋光粉中的化學(xué)分密切相關(guān)，拋光材料影響著CMP拋光速率和表面缺陷。拋光粉圖1.2是化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備原理圖，玻璃拋光設(shè)備系統(tǒng)大致由四部分組成:玻璃制品、拋光粉、使拋光粉與玻璃制品相互接觸的拋光臺(tái)、使拋光臺(tái)對(duì)玻璃表面研磨的拋光機(jī)。在拋光玻璃的實(shí)際過程中需要考慮很多因素，如玻璃制品、拋光設(shè)備、拋光粉及拋光臺(tái)的類型，以及玻璃制品的件數(shù)、拋光的成本、成品的產(chǎn)量和玻璃表面的質(zhì)量等。拋光機(jī)是CMP技術(shù)的基礎(chǔ)，大多數(shù)的生產(chǎn)型拋光機(jī)臺(tái)都有多個(gè)拋頭，以適應(yīng)拋光不同材料的需要。在化學(xué)機(jī)械拋光的研究中，拋光粉是由性能優(yōu)良、顆粒均勻、分散性好、硬度適中的磨料及水和一定量的懸浮劑制備的。目前，CeOa多用于玻璃和硅片的拋光，硅片的拋光常用SiOa, CeOa, ZrOa, AlaOs, Ti0:等或它們的復(fù)合粉體。拋光墊是在CMP過程中決定拋光速率和平坦化能力的重要消耗品之一，為了能與磨料發(fā)揮更好的作用，拋光墊通常具有一定的機(jī)械特性和多孔吸水的特性，拋光墊中的小孔能幫助傳輸磨料和提高拋光均勻性。拋光墊主要有三個(gè)基本類型:聚氨脂拋光墊、無紡布拋光墊、絨毛結(jié)構(gòu)拋光墊。

5，拋光都有哪些常見的方式方法

1、機(jī)械拋光機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具，表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。2、化學(xué)拋光化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，效率高?；瘜W(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制?；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。3、電解拋光電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步：(1)宏觀整平溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。(2)微光平整陽極極化，表面光亮度提高，Ra<1μm。4、超聲波拋光將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會(huì)引起工件變形，但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上，再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液，使工件表面溶解產(chǎn)物脫離，表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻；超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程，利于表面光亮化。5、流體拋光流體拋光是依*高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng)，使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。6、磁研磨拋光磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷，對(duì)工件磨削加工。這種方法加工效率高，質(zhì)量好，加工條件容易控制，工作條件好。采用合適的磨料，表面粗糙度可以達(dá)到Ra0.1μm。

1.機(jī)械拋光機(jī)械拋光是依靠非常細(xì)小的拋光粉的磨削、滾壓作用，除去試樣磨面上的極薄一層金屬。如果拋光前磨面上留有較深的磨痕，僅采用機(jī)械拋光是難以去除的。因?yàn)槿魧⒛ズ蹝伒簦瑒?shì)必要加濃拋光液，加長(zhǎng)時(shí)間或加重拋光時(shí)所施加的壓力，導(dǎo)致磨面表層金屬流動(dòng)和擾亂，試樣磨面變形層加厚，使一些合金中的晶相脫落。尤其是硬度不太大鋁合金是時(shí)，磨面表層的氧化將更厲害，從而影響組織觀察。所以進(jìn)行機(jī)械拋光的試樣在細(xì)磨后只允許留有單一方向均勻的細(xì)磨痕。2.化學(xué)拋光化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法?；瘜W(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)效率高?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。3.電解拋光電解拋光是指金屬制品在一定組成的溶液中進(jìn)行特殊的陽極處理，以獲得平滑、光亮表面的精飾加工過程。它既可以作制品電鍍前的表面準(zhǔn)備，也可作鍍后表面的精飾，還可作為金屬表面獨(dú)立的精飾加工方法。廣東熙泉機(jī)電有限公司5.磁性研磨拋光磁性研磨拋光的方法是采用磁性研磨劑，通過磁場(chǎng)中磁力的作用，磁性研磨劑工作在表面，同時(shí)保持在模具表面和磁極之間間斷工作。因此在制造過程中磁粒被有序的安排在沿著磁力線周圍。同時(shí)形成了磁性刷，在磁力作用下圍繞在模具表面。由于磁場(chǎng)和被加工件的旋轉(zhuǎn)會(huì)使磁性刷和被加工件的表面產(chǎn)生一個(gè)相關(guān)的運(yùn)動(dòng)，這樣可以用磁性研磨劑來拋光被加工件表面。通常在拋光時(shí)用一些儀器，例如數(shù)字控制磨機(jī)或者加工中心。6.流體拋光流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng)，使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質(zhì)）并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。7.磁流變拋光磁流變拋光技術(shù)，是利用磁流變拋光液在梯度磁場(chǎng)中發(fā)生流變而形成的具有黏塑行為的柔性"小磨頭"與工件之間具有快速的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使工件表面受到很大的剪切力，從而使工件表面材料被去除。磁流變拋光(MRF)是電磁理論、流體力學(xué)、分析化學(xué)等應(yīng)用于光學(xué)表面加工而形成的一項(xiàng)綜合技術(shù)。磁流變液是一種智能材料，其在磁場(chǎng)的作用下，可在1ms的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)固-液兩相的可逆轉(zhuǎn)換。8.化學(xué)機(jī)械拋光（CMP） CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化學(xué)機(jī)械拋光。CMP技術(shù)所采用的設(shè)備及消耗品包括：拋光機(jī)、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設(shè)備、拋光終點(diǎn)檢測(cè)及工藝控制設(shè)備、廢物處理和檢測(cè)設(shè)備等。CMP技術(shù)的概念是1965年由Monsanto首次提出。該技術(shù)最初是用于獲取高質(zhì)量的玻璃表面，如軍用望遠(yuǎn)鏡等。1988年IBM開始將CMP技術(shù)運(yùn)用于4MDRAM 的制造中，而自從1991年IBM將CMP成功應(yīng)用到64MDRAM 的生產(chǎn)中以后，CMP技術(shù)在世界各地迅速發(fā)展起來。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法，CMP通過化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用，從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光。 CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。廣東熙泉機(jī)電有限公司。

1.電拋光后，表面為什么會(huì)發(fā)現(xiàn)似未拋光的斑點(diǎn)或小塊？原因分析：拋光前除油不徹底，表面尚附有油跡。2.拋光過后表面局部為什么有灰黑色斑塊存在？原因分析：可能氧化皮未徹底除干凈。局部尚存在氧化皮。解決方法：加大清除氧化皮力度，可選用“ 不銹鋼氧化皮清除液”，“不銹鋼氧化皮清除膏”等產(chǎn)品。因除銹除氧化皮產(chǎn)品較多，具體適用產(chǎn)品可咨詢威海云清化工開發(fā)院。3.拋光后工件棱角處及尖端過腐蝕是什么原因引起的？原因分析：棱角、尖端的部位電流過大，或電解液溫度過高，拋光時(shí)間過長(zhǎng)，導(dǎo)致過度溶解。解決方法：調(diào)整電流密度或溶液溫度，或縮短時(shí)間。檢查電極位置，在棱角處設(shè)置屏蔽等。4.為什么工件拋光后不光亮并呈灰暗色？分析原因：可能電化學(xué)拋光溶液已不起作用，或作用不明顯。解決方法：檢查電解拋光液是否使用時(shí)間過長(zhǎng)，質(zhì)量下降，或溶液成分比例失調(diào)。5.工件拋光后表面有白色的條紋是怎么回事？原因分析：溶液相對(duì)密度太大，液體太稠，相對(duì)密度大于1.82。解決方法：增大溶液的攪拌程度，如果溶液相對(duì)密度太大，用水稀釋至1.72。在90~100℃條件下并加熱一小時(shí)。6.為什么拋光后表面有陰陽面，及局部無光澤的現(xiàn)象？原因分析：工件放置的位置沒有與陰極對(duì)正，或工件互相有屏蔽。解決方法：將工件進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，使工件與陰極的位置適當(dāng)，使電力分布合理。7.拋光后工件表面平整光潔，但有些點(diǎn)或塊不夠光亮，或出現(xiàn)垂直狀不亮條紋，一般是什么原因引起的？原因分析：可能是拋光后期工件表面上產(chǎn)生的氣泡未能及時(shí)脫離并附在表面或表面有氣流線路。解決方法：提高電流密度，使析氣量加大以便氣泡脫附，或提高溶液的攪拌速度，增加溶液的流動(dòng)。8.零件和掛具接觸點(diǎn)無光澤并有褐色斑點(diǎn)，表面其余部分都光亮是什么原因？原因分析：可能是零件與掛具的接觸不良，造成電流分布不均，或零件與掛具接觸點(diǎn)少。解決方法：擦亮掛具接觸點(diǎn)，使導(dǎo)電良好，或增大零件與掛具的接觸點(diǎn)面積。9.同一槽拋光的零件有的光亮，有的不亮，或者局部不亮。原因分析：同槽拋光工件太多，致使電流分布不均勻，或者是工件之間互相重疊，屏蔽。解決方法：減少同槽拋光工件的數(shù)量，或者注意工件的擺放位置。10．為什么拋光零件凹入部位和零件與掛具接觸點(diǎn)接觸附近有銀白色斑點(diǎn)？原因分析：可能是零件的凹入部位被零件本身或掛具屏蔽了。解決方法：適當(dāng)改變零件位置，使凹入部位能得到電力線或縮小電極之間距離或提高電流密度。11.已嚴(yán)格按照工藝規(guī)范操作，為什么拋光后零件表面有或多或少的過腐蝕現(xiàn)象？原因分析：是否溶液溫度過高或電流密度太大，如果溶液配制沒有問題，又嚴(yán)格操作，則可能是拋光前的處理問題。解決方法：嚴(yán)格執(zhí)行電化學(xué)拋光前處理的操作，在酸洗過程中避免過腐蝕。不要把清洗水留在零件表面，帶進(jìn)拋光槽。12.“不銹鋼通用電解液”為什么使用一段時(shí)間會(huì)出現(xiàn)泡沫？原因分析：工件表面未除油，一些油污浮在電解液表面，對(duì)操作帶來了困難。解決方法：已經(jīng)出現(xiàn)此情況的，建議將表面的油污撈出，未出現(xiàn)的建議在拋光前進(jìn)行除油。13.電化學(xué)拋光液內(nèi)硫酸與磷酸之間有什么關(guān)系？原因分析：硫酸較多，拋光速度過快，對(duì)金屬基體可加快腐蝕，磷酸較多，可在工件表面吸附一種黏膜，亮度下降，拋光速度變慢。當(dāng)然也不排除其他因素。解決方法：調(diào)整硫酸磷酸合適比例。也可以選擇“各種無鉻電解添加劑”配方。14.工件拋光后表面無光澤，在淺黃色底子上有白色斑點(diǎn)，一般什么原因引起的？原因分析：可能是電解拋光溶液中鉻酐含量過高，甚至超過1.5%。解決方法：鉻離子屬于重金屬離子，對(duì)人體有致癌作用，污染環(huán)境，可選用無鉻拋光液。推薦使用“不銹鋼通用電解液”。15.電解液成本核算主要是哪些？主要是電費(fèi)、電解液、整流器、電解槽、極板、銅棒、加熱管等。16.不銹鋼各種材質(zhì)在電解拋光時(shí)電流密度是多少？與電解成本有什么關(guān)聯(lián)？原因分析：在市場(chǎng)常規(guī)情況下不銹鋼各種材質(zhì)在電解液的密度為：200系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在25—50安培之間，300系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在15—30安培之間，400系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在30—55安培之間。200系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在15—25安培之間，300系列不銹鋼材質(zhì)在10—15安培之間，400系列不銹鋼材質(zhì)在25—30之間。電流密度越大，耗電量越大。而在電解成本核算中，電費(fèi)所占的比例很大。17.拋光后經(jīng)擦拭干凈扔無光澤，有淺蘭色陰影什么原因？原因分析：可能是電化學(xué)拋光液配制后，未進(jìn)行加熱及通電處理，或溶液操作溫度偏低。解決方案：120℃下加熱電拋光液一小時(shí)或?qū)㈦娊庖杭訜岬揭?guī)定溫度。18.拋光后無光并且有黃色斑點(diǎn)是什么原因引起的？原因分析：可能電化學(xué)溶液的相對(duì)密度偏小，已小于1.70。解決方案：調(diào)整電拋光的相對(duì)密度或在80—100℃條件下加熱濃縮以增大起相對(duì)密度。或是更換新液。19.工件拋光后，為什么從槽中取出就出現(xiàn)褐色斑點(diǎn)？原因分析：可能是電拋光不夠，或是時(shí)間較短。解決方法：首先適當(dāng)延長(zhǎng)拋光時(shí)間，如果無作用，則可能是溫度或者電流密度不夠的問題。20.電解時(shí)為什么容易出現(xiàn)打火現(xiàn)象？原因分析：導(dǎo)致這一現(xiàn)象有三點(diǎn)因素：一是掛具與工件接觸點(diǎn)不牢固，二是電解液密度太低，三是電流密度過高。解決方法：多換幾種掛具與工件連接方法，盡量多增加掛具與工件的接觸點(diǎn)。如是電解液密度太低，可更換電解液，建議選用“不銹鋼通用電解液”。21.不銹鋼電解液操作溫度對(duì)電解拋光有什么影響？最佳溫度是多少？原因分析：一般電解液使用溫度為50—90℃之間，溫度較低，拋光速度較慢，光亮度下降。溫度過高，液體對(duì)工件腐蝕加快，容易引起工件過腐蝕，電解液有效成分容易分解。解決方法：溫度較低應(yīng)加熱到規(guī)定溫度，加熱可使用各種加熱管（如石英，鈦材質(zhì)加熱管），長(zhǎng)時(shí)間工作溫度會(huì)上升，當(dāng)溫度超過90℃時(shí)應(yīng)停止工作，散熱可選用攪拌或冷卻循環(huán)方式。最佳使用溫度是50—90℃，“不銹鋼通用電解液”的最佳使用溫度為50—80℃。22.不銹鋼工件表面凹凸不平，麻點(diǎn)呈凸?fàn)?，什么原因引起的？原因分析：表面銹蝕較多，電解液只是微觀腐蝕整平，較多的銹蝕電解液不能完全清除，如延長(zhǎng)拋光時(shí)間，大量鐵離子沉入電解液底部，降低電解液使用壽命。解決方法：將工件表面的銹蝕清除干凈。推薦使用“不銹鋼活化液”，“除銹水”，“氧化皮清除液”等產(chǎn)品進(jìn)行清洗除銹。23.影響電化學(xué)拋光的主要因素有哪些？溫度，時(shí)間，工件材質(zhì)，電解質(zhì)，電壓，電流，工件擺放位置。24.在做不銹鋼電解拋光時(shí)，表面吸附一層淺紅色物質(zhì)，再次放入電解液會(huì)有短時(shí)間的反應(yīng)，什么原因？原因分析：用銅掛具，銅離子進(jìn)入電解液吸附到陽極表面，影響拋光質(zhì)量，再次放入會(huì)有短時(shí)間反應(yīng)是因?yàn)殡娊庖簩⒐ぜ砻娴你~離子溶解了。解決方法：選用鈦掛具，在夾具裸露處用聚氯乙烯樹脂烘烤成膜，在接觸點(diǎn)刮去絕緣膜，漏出金屬以利于導(dǎo)電。25.陰陽極的最佳面積比是多少？陽極比陰極為1：2—3.5之間。26.兩極最佳極距是多少？陰極距陽極最佳距離為10—30厘米。27.不銹鋼通用電解拋光液在老化后怎樣維護(hù)？不銹鋼通用電解液老化后可以添加硫酸（密度為1.84），添加量為槽液重量的6%，或是參考386a·h/l.28.初次進(jìn)行電解拋光，不僅沒有拋出亮度，而且工件表面全部變成黑色或灰色，是什么原因引起的？原因分析：發(fā)生這種現(xiàn)象一般是兩極接反了，接反后鉛板成正極溶解，工件成陰極吸附，工件溶解在溶液中的鐵鎳鉻離子吸附在工件表面，形成了一層結(jié)合力不好的膜層。解決方法：將正負(fù)極重新連接，陽極接正極，陰極接負(fù)極。